专利名称：一种聚合物电解质膜的制备方法专利类型：发明专利
发明人：程跃,邓洪贵,王丽华,何方波,王伟强申请号：CN201610398348.X申请日：20160607公开号：CN107474270A公开日：20171215
摘要：本发明公开了一种聚合物电解质膜的制备方法。所述方法包括步骤：(1)将分子筛材料、聚合物和溶剂混合得到浆料；(2)将浆料涂覆于基膜上，得到湿薄膜；(3)使湿薄膜干燥后浸泡在锂盐电解液中得到聚合物电解质膜。
申请人：上海恩捷新材料科技股份有限公司
地址：201399 上海市浦东新区南芦公路155#
国籍：CN
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：张睿
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